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    • 艾荻環(huán)境

    艾荻環(huán)境技術(shù)（上海）有限公司

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    • 地址：上海市閔行區(qū)東川路555號(hào)丁樓三層01A室
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    專利信息13

    序號(hào) 專利名稱 專利類型 申請(qǐng)?zhí)?/th> 公開(kāi)（公告）號(hào) 公布日期
    1 煙氣同時(shí)脫硫脫硝的方法 發(fā)明專利 CN201310251886.2 CN103301749B 2015-12-02
    2 金屬氧化礦的分離純化方法 發(fā)明專利 CN201310251926.3 CN103276210B 2015-03-25
    3 金屬氧化礦的分離純化方法 發(fā)明專利 CN201310251926.3 CN103276210A 2015-03-25
    4 煙氣同時(shí)脫硫脫硝的方法 發(fā)明專利 CN201310251886.2 CN103301749A 2013-09-18
    5 合金表面選擇性吸收處理方法 發(fā)明專利 CN201110037784.1 CN102127800B 2013-03-20
    6 基于導(dǎo)電基底的光電還原制備石墨烯薄膜的方法 發(fā)明專利 CN201110199737.7 CN102290251B 2012-11-07
    7 選擇性吸收光波的復(fù)合材料 發(fā)明專利 CN201110037782.2 CN102134687B 2012-09-26
    8 具有選擇性吸收功能的復(fù)合材料涂層 發(fā)明專利 CN201110037776.7 CN102168295B 2012-05-30
    9 基于導(dǎo)電基底的光電還原制備石墨烯薄膜的方法 發(fā)明專利 CN201110199737.7 CN102290251A 2011-12-21
    10 具有選擇性吸收功能的復(fù)合材料涂層 發(fā)明專利 CN201110037776.7 CN102168295A 2011-08-31

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