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    • 聯(lián)頓恪

    合肥聯(lián)頓恪智能科技有限公司

    存續(xù)
    • 地址：安徽省合肥市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)青龍?zhí)堵放c衛(wèi)星路交口青龍?zhí)堵樊a(chǎn)業(yè)園研發(fā)樓D1
    • 簡介：-
    • 商標信息 3
    • 專利信息 6
    • 軟件著作權(quán) 1
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 2

    商標信息3

    序號 商標名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 NAOEV 07類-機械設備 53277644 商標已注冊 2021-01-25 查看
    2 聯(lián)頓恪 07類-機械設備 53272944 商標已注冊 2021-01-25 查看
    3 LDEQV 07類-機械設備 50792827 商標已注冊 2020-10-28 查看

    專利信息6

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 一種基板加熱冷卻系統(tǒng) 實用新型 CN202121581342.9 CN215209611U 2021-12-17
    2 一種蒸鍍裝置 實用新型 CN202121581316.6 CN215050643U 2021-12-07
    3 一種ALD沉積裝置及方法 發(fā)明專利 CN202110802549.2 CN113529055A 2021-10-22
    4 一種用于高解解析度的精細金屬掩模版及其制作工藝 發(fā)明專利 CN202110843361.2 CN113529014A 2021-10-22
    5 一種濺射鍍膜裝置及成膜方法 發(fā)明專利 CN202110697536.3 CN113481478A 2021-10-08
    6 一種蒸發(fā)源裝置 發(fā)明專利 CN202110645989.1 CN113416932A 2021-09-21

    軟件著作權(quán)1

    序號 軟件名稱 軟件簡稱 版本號 登記號 分類號 首次發(fā)表日期 登記批準日期
    1 RV200薄膜沉積系統(tǒng)控制軟件 - V1.0 2022SR0621684 - - 2022-05-23

    作品著作權(quán)0

    暫無信息 暫無作品著作權(quán)

    網(wǎng)站備案2

    序號 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 合肥聯(lián)頓恪智能科技有限公司 www.ldeqv.com 皖ICP備2021009400號 企業(yè) 2021-07-02
    2 - www.ldeqv.com 皖ICP備2021009400號 企業(yè) 2021-07-02
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