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    • 中維創(chuàng)發(fā)

    武漢中維創(chuàng)發(fā)工業(yè)研究院有限公司

    存續(xù)
    • 地址：武漢東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)關(guān)山大道473號光谷新發(fā)展國際中心寫字樓B座第5、6層05-108室（一址多照）
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    • 專利信息 13
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    專利信息13

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 陶瓷電阻的制備方法、陶瓷電阻及電子電路器件 發(fā)明專利 CN202111676044.2 CN114195490A 2022-03-18
    2 復(fù)合仿金合金涂層及其制備方法和應(yīng)用 發(fā)明專利 CN202111436205.0 CN113846290B 2022-03-18
    3 納米多層復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用 發(fā)明專利 CN202111400075.5 CN113817985B 2022-03-18
    4 納米多層復(fù)合陶瓷涂層及其制備方法和應(yīng)用 發(fā)明專利 CN202111398807.1 CN113817984B 2022-03-18
    5 黑色納米復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用 發(fā)明專利 CN202111398767.0 CN113817983B 2022-03-18
    6 磁控濺射鍍膜腔室、鍍膜機(jī)以及鍍膜方法 發(fā)明專利 CN202111316908.X CN113774351B 2022-03-18
    7 粉體及其制備方法 發(fā)明專利 CN202111566723.4 CN113953521A 2022-01-21
    8 仿金合金及其制備方法和應(yīng)用 發(fā)明專利 CN202111456050.7 CN113862584A 2021-12-31
    9 復(fù)合仿金合金涂層及其制備方法和應(yīng)用 發(fā)明專利 CN202111436205.0 CN113846290A 2021-12-28
    10 納米多層復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用 發(fā)明專利 CN202111400075.5 CN113817985A 2021-12-21

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