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    • 中微掩模

    無錫中微掩模電子有限公司

    存續(xù)
    • 地址：無錫市新吳區(qū)菱湖大道202號
    • 簡介：-
    • 商標(biāo)信息 3
    • 專利信息 113
    • 軟件著作權(quán) 0
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 1

    商標(biāo)信息3

    序號 商標(biāo)名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 中微掩模;ZW MASK 09類-科學(xué)儀器 50836959 等待實質(zhì)審查 2020-10-29 查看
    2 圖形 35類-廣告銷售 50826911 等待實質(zhì)審查 2020-10-29 查看
    3 ZW 09類-科學(xué)儀器 50815156 等待實質(zhì)審查 2020-10-29 查看

    專利信息113

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 一種激光束曝光機上下料裝置可調(diào)節(jié)支架 實用新型 CN202023111195.7 CN214306201U 2021-09-28
    2 一種7寸掩模版清洗花籃 實用新型 CN202022924346.4 CN214289671U 2021-09-28
    3 一種自動貼膜機的成品輸送機構(gòu) 實用新型 CN202021371017.5 CN214002169U 2021-08-20
    4 一種掩模夾具 實用新型 CN202022473018.7 CN213673670U 2021-07-13
    5 一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗 發(fā)明專利 CN202110266066.5 CN112885689A 2021-06-01
    6 一種掩模架子 實用新型 CN202022475747.6 CN213276258U 2021-05-25
    7 一種通用掩模夾具 實用新型 CN202022475732.X CN213276257U 2021-05-25
    8 一種掩膜工藝中手動拆膜用平臺裝置 實用新型 CN202022475749.5 CN213276254U 2021-05-25
    9 一種掩模制造用新型真空系統(tǒng)及上下料方法 發(fā)明專利 CN202011530542.1 CN112758669A 2021-05-07
    10 一種激光束曝光機上下料裝置可調(diào)節(jié)支架 發(fā)明專利 CN202011530577.5 CN112576893A 2021-03-30

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    暫無信息 暫無軟件著作權(quán)

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    網(wǎng)站備案1

    序號 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 中微掩模 www.zwmask.com 蘇ICP備11074032號 企業(yè) 2016-10-20
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