思沃激光
商標(biāo)信息0
專(zhuān)利信息9
序號(hào) | 專(zhuān)利名稱(chēng) | 專(zhuān)利類(lèi)型 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 公開(kāi)(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 分光曝光系統(tǒng) | 實(shí)用新型 | CN202023045894.6 | CN214067574U | 2021-08-27 |
2 | 一種無(wú)掩膜光刻設(shè)備 | 實(shí)用新型 | CN202022844337.4 | CN214011719U | 2021-08-20 |
3 | 一種無(wú)掩膜光刻設(shè)備 | 實(shí)用新型 | CN202022844287.X | CN213750654U | 2021-07-20 |
4 | 一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的全反射混光系統(tǒng) | 實(shí)用新型 | CN202022937871.X | CN213423614U | 2021-06-11 |
5 | 一種反射效率高的全反射混光系統(tǒng) | 實(shí)用新型 | CN202022935595.3 | CN213362341U | 2021-06-04 |
6 | 一種方便調(diào)節(jié)的全反射混光系統(tǒng) | 實(shí)用新型 | CN202022935593.4 | CN213362340U | 2021-06-04 |
7 | 曝光方法、曝光機(jī)及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì) | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202011499334.X | CN112462578A | 2021-03-09 |
8 | 一種無(wú)掩膜光刻設(shè)備和無(wú)掩膜光刻方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202011374596.3 | CN112379578A | 2021-02-19 |
9 | 一種無(wú)掩膜光刻設(shè)備和無(wú)掩膜光刻方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202011374575.1 | CN112379577A | 2021-02-19 |
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