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    • 思沃激光

    廣東思沃激光科技有限公司

    在業(yè)
    • 地址：廣東省東莞市松山湖園區(qū)研發(fā)一路1號104房
    • 簡介：-
    • 商標(biāo)信息 0
    • 專利信息 9
    • 軟件著作權(quán) 0
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 0

    商標(biāo)信息0

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    專利信息9

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 分光曝光系統(tǒng) 實用新型 CN202023045894.6 CN214067574U 2021-08-27
    2 一種無掩膜光刻設(shè)備 實用新型 CN202022844337.4 CN214011719U 2021-08-20
    3 一種無掩膜光刻設(shè)備 實用新型 CN202022844287.X CN213750654U 2021-07-20
    4 一種結(jié)構(gòu)簡單的全反射混光系統(tǒng) 實用新型 CN202022937871.X CN213423614U 2021-06-11
    5 一種反射效率高的全反射混光系統(tǒng) 實用新型 CN202022935595.3 CN213362341U 2021-06-04
    6 一種方便調(diào)節(jié)的全反射混光系統(tǒng) 實用新型 CN202022935593.4 CN213362340U 2021-06-04
    7 曝光方法、曝光機(jī)及計算機(jī)可讀存儲介質(zhì) 發(fā)明專利 CN202011499334.X CN112462578A 2021-03-09
    8 一種無掩膜光刻設(shè)備和無掩膜光刻方法 發(fā)明專利 CN202011374596.3 CN112379578A 2021-02-19
    9 一種無掩膜光刻設(shè)備和無掩膜光刻方法 發(fā)明專利 CN202011374575.1 CN112379577A 2021-02-19

    軟件著作權(quán)0

    暫無信息 暫無軟件著作權(quán)

    作品著作權(quán)0

    暫無信息 暫無作品著作權(quán)

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