新陽
商標信息9
序號 | 商標名稱 | 國際分類 | 注冊號 | 狀態(tài) | 申請日期 | 操作 |
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1 | SY 新陽 SINYANG | 01類-化學原料 | 52757708 | 等待實質(zhì)審查 | 2021-01-05 | 查看 |
2 | SY SINYANG WWW.SINYANG.COM.CN | 07類-機械設(shè)備 | 52756498 | 等待實質(zhì)審查 | 2021-01-05 | 查看 |
3 | 新陽 SY SINYANG | 09類-科學儀器 | 52751931 | 等待實質(zhì)審查 | 2021-01-05 | 查看 |
4 | SY 新陽 SINYANG | 07類-機械設(shè)備 | 52741561 | 等待實質(zhì)審查 | 2021-01-05 | 查看 |
5 | SY SINYANG WWW.SINYANG.COM.CN | 09類-科學儀器 | 52734973 | 等待實質(zhì)審查 | 2021-01-05 | 查看 |
6 | SY SINYANG WWW.SINYANG.COM.CN | 01類-化學原料 | 52730258 | 等待實質(zhì)審查 | 2021-01-05 | 查看 |
7 | SY | 01類-化學原料 | 3283800 | 商標已注冊 | 2002-08-23 | 查看 |
8 | SY | 07類-機械設(shè)備 | 3283799 | 商標已注冊 | 2002-08-23 | 查看 |
9 | SINYANG | 01類-化學原料 | 1573629 | 商標已注冊 | 2000-03-31 | 查看 |
專利信息376
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010817663.8 | CN111925803B | 2021-10-01 |
2 | 高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010817298.0 | CN111925802B | 2021-10-01 |
3 | 一種高選擇比蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010817231.7 | CN111925799B | 2021-10-01 |
4 | 高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010817220.9 | CN111925797B | 2021-10-01 |
5 | 一種蝕刻液組合物、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010817676.5 | CN111925805B | 2021-09-28 |
6 | 高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010817664.2 | CN111925804B | 2021-09-28 |
7 | 一種蝕刻液組合物、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010817221.3 | CN111925798B | 2021-09-28 |
8 | 一種高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010822571.9 | CN111849487B | 2021-09-28 |
9 | 金剛線切割液及其制備方法和應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN201910649488.3 | CN110295082B | 2021-09-28 |
10 | 離子注入光刻膠清洗液、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010210625.6 | CN113433807A | 2021-09-24 |
軟件著作權(quán)0
作品著作權(quán)0
網(wǎng)站備案2
序號 | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號 | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | 上海新陽半導體材料股份有限公司 | www.sinyang.com.cn | 滬ICP備19027903號 | 企業(yè) | 2019-08-13 |
2 | 上海新陽半導體材料股份有限公司 | www.sinyang.com.cn | 滬ICP備19027903號 | 企業(yè) | 2019-08-13 |
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