墨研計算
商標(biāo)信息0
專利信息25
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 一種基于LED的微型顯示屏的發(fā)光控制方法及系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN202111243830.3 | CN113689822A | 2021-11-23 |
2 | 一種淀積工藝的仿真方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN202110927132.9 | CN113378444B | 2021-11-05 |
3 | 一種刻蝕工藝的仿真方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN202110905274.5 | CN113343505B | 2021-11-05 |
4 | 一種淀積工藝的仿真方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN202110927132.9 | CN113378444A | 2021-09-10 |
5 | 一種刻蝕工藝的仿真方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN202110905274.5 | CN113343505A | 2021-09-03 |
6 | 一種計算光刻建模方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN201910385455.2 | CN110262191B | 2021-06-08 |
7 | 一種計算光刻建模方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN201910385455.2 | CN110262191A | 2021-06-08 |
8 | 一種計算光刻中掩模版的處理方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN201910072613.9 | CN109656106B | 2020-12-04 |
9 | 一種基于極坐標(biāo)矢量計算光刻模型的方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN201911288282.9 | CN110703438B | 2020-04-17 |
10 | 一種基于多目標(biāo)優(yōu)化的光刻工藝分辨率增強方法及裝置 | 發(fā)明專利 | CN201911123888.7 | CN110597023B | 2020-03-17 |
軟件著作權(quán)3
序號 | 軟件名稱 | 軟件簡稱 | 版本號 | 登記號 | 分類號 | 首次發(fā)表日期 | 登記批準(zhǔn)日期 |
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1 | 版圖格式轉(zhuǎn)換軟件 | maskit | V1.0 | 2020SR0688131 | - | - | 2020-06-29 |
2 | 版圖修正軟件 | moco | V1.0 | 2019SR0651541 | 30200-4000 | - | 2019-06-25 |
3 | 計算光刻模型參數(shù)分析軟件 | Moyee | V1.0 | 2019SR0316258 | 30200-4000 | - | 2019-04-09 |
作品著作權(quán)0
網(wǎng)站備案1
序號 | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號 | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | 墨研計算 | www.moyancs.com | 蘇ICP備18053479號 | 企業(yè) | 2019-11-14 |
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