睿力
商標信息1
序號 | 商標名稱 | 國際分類 | 注冊號 | 狀態(tài) | 申請日期 | 操作 |
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1 | INNOTRON | 09類-科學儀器 | 25784947 | 商標已注冊 | 2017-08-10 | 查看 |
專利信息422
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 占空比校準電路及半導體存儲器 | 發(fā)明專利 | CN201711394391.X | CN108134602B | 2021-08-24 |
2 | 窗口型球柵陣列封裝組件 | 發(fā)明專利 | CN201810472231.0 | CN108695273B | 2020-05-26 |
3 | 電容器陣列及其形成方法、半導體器件 | 發(fā)明專利 | CN201810387467.4 | CN108550568B | 2020-04-10 |
4 | 基于高K介質膜層結構的電容器 | 發(fā)明專利 | CN201810355293.3 | CN108649025B | 2019-10-18 |
5 | 一種半導體器件結構及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201810171911.9 | CN108470686B | 2019-10-18 |
6 | 存儲器的控制電路、存儲器及其控制方法 | 發(fā)明專利 | CN201810180517.1 | CN108417240B | 2019-10-01 |
7 | 導體結構、電容器陣列結構及制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201711373297.6 | CN108155152B | 2019-09-06 |
8 | 具有栓塞的半導體器件 | 發(fā)明專利 | CN201810291816.2 | CN108511416B | 2019-08-30 |
9 | 淺溝槽隔離結構及其制作方法 | 發(fā)明專利 | CN201711189708.6 | CN107994016B | 2019-08-27 |
10 | 一種改善薄膜沉積均勻度的方法 | 發(fā)明專利 | CN201711086329.4 | CN107881486B | 2019-08-16 |
軟件著作權0
作品著作權0
網(wǎng)站備案27
序號 | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號 | 主辦單位性質 | 審核日期 |
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1 | - | www.hfzjco.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
2 | 睿力集成電路有限公司 | www.innotron.com.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
3 | 睿力集成電路有限公司 | www.innotron.com.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
4 | 睿力集成電路有限公司 | www.innotron.com.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
5 | 睿力集成電路有限公司 | www.innotron.com | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
6 | - | www.hfzjco.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
7 | - | www.innotron.com.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
8 | - | www.innotron.com.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
9 | - | www.innotron.com.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
10 | - | www.innotron.com.cn | 皖ICP備17000573號 | 企業(yè) | 2019-09-26 |
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