氣相科技
氣相科技(武漢)有限公司
存續(xù)商標(biāo)信息0
專(zhuān)利信息6
序號(hào) | 專(zhuān)利名稱(chēng) | 專(zhuān)利類(lèi)型 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 公開(kāi)(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 一種具有高晶粒生長(zhǎng)速率的釩薄膜制備方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202011016815.0 | CN112144031A | 2020-12-29 |
2 | 一種調(diào)控釩薄膜擇優(yōu)取向性的方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202010884112.3 | CN112030126A | 2020-12-04 |
3 | 一種非金屬/金屬/非金屬三明治結(jié)構(gòu)復(fù)合材料的制備方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202010813698.4 | CN111945124A | 2020-11-17 |
4 | 一種激光加熱制備外延石墨烯的方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN201911222939.1 | CN111017914A | 2020-04-17 |
5 | 一種磁控濺射制備非晶金屬釩薄膜的方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN201910891147.7 | CN110607510A | 2019-12-24 |
6 | 一種基于3C-SiC薄膜的電極材料及其制備方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN201910703335.2 | CN110534348A | 2019-12-03 |
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