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    • 源杰

    陜西源杰半導(dǎo)體科技股份有限公司

    在業(yè)
    • 地址：陜西省西咸新區(qū)灃西新城開(kāi)元路以北、興信路以西、縱九路以東
    • 簡(jiǎn)介：-
    • 商標(biāo)信息 12
    • 專(zhuān)利信息 43
    • 軟件著作權(quán) 0
    • 作品著作權(quán) 3
    • 網(wǎng)站備案 2

    商標(biāo)信息12

    序號(hào) 商標(biāo)名稱(chēng) 國(guó)際分類(lèi) 注冊(cè)號(hào) 狀態(tài) 申請(qǐng)日期 操作
    1 ORIGIN OF EXCELLENCE 35類(lèi)-廣告銷(xiāo)售 55438007 等待實(shí)質(zhì)審查 2021-04-21 查看
    2 ORIGIN OF EXCELLENCE 42類(lèi)-網(wǎng)站服務(wù) 55417720 等待實(shí)質(zhì)審查 2021-04-21 查看
    3 ORIGIN OF EXCELLENCE 09類(lèi)-科學(xué)儀器 55415784 等待實(shí)質(zhì)審查 2021-04-21 查看
    4 圖形 42類(lèi)-網(wǎng)站服務(wù) 53720015 等待實(shí)質(zhì)審查 2021-02-18 查看
    5 源杰半導(dǎo)體 42類(lèi)-網(wǎng)站服務(wù) 53716943 初審公告 2021-02-18 查看
    6 ORIGIN OF EXCELLENCE 42類(lèi)-網(wǎng)站服務(wù) 53716941 初審公告 2021-02-18 查看
    7 YJ 09類(lèi)-科學(xué)儀器 53715535 等待實(shí)質(zhì)審查 2021-02-18 查看
    8 ORIGIN OF EXCELLENCE 09類(lèi)-科學(xué)儀器 53710937 等待實(shí)質(zhì)審查 2021-02-18 查看
    9 源杰半導(dǎo)體 09類(lèi)-科學(xué)儀器 53709371 初審公告 2021-02-18 查看
    10 ORIGIN OF EXCELLENCE 35類(lèi)-廣告銷(xiāo)售 53705613 初審公告 2021-02-10 查看

    專(zhuān)利信息43

    序號(hào) 專(zhuān)利名稱(chēng) 專(zhuān)利類(lèi)型 申請(qǐng)?zhí)?/th> 公開(kāi)（公告）號(hào) 公布日期
    1 一種鋁量子阱激光器及其制備方法 發(fā)明專(zhuān)利 CN202110628970.6 CN113078553B 2021-08-13
    2 一種鋁量子阱激光器及其制備方法 發(fā)明專(zhuān)利 CN202110628970.6 CN113078553A 2021-08-13
    3 半導(dǎo)體器件制備方法及半導(dǎo)體器件 發(fā)明專(zhuān)利 CN202011461968.6 CN112271209B 2021-08-13
    4 半導(dǎo)體器件制備方法及半導(dǎo)體器件 發(fā)明專(zhuān)利 CN202011461968.6 CN112271209A 2021-08-13
    5 一種鋁量子阱激光器及其制備方法 發(fā)明專(zhuān)利 CN202110628970.6 CN113078553A 2021-07-06
    6 通訊用光放大器與光電二極管探測(cè)器集成元件及制備方法 發(fā)明專(zhuān)利 CN202010682758.3 CN111816669B 2021-06-25
    7 通訊用光放大器與光電二極管探測(cè)器集成元件及制備方法 發(fā)明專(zhuān)利 CN202010682758.3 CN111816669A 2021-06-25
    8 一種25G抗反射激光器的制備工藝 發(fā)明專(zhuān)利 CN202010415176.9 CN111541148B 2021-06-11
    9 一種10G抗反射激光器及其制備工藝 發(fā)明專(zhuān)利 CN202010415177.3 CN111541149B 2021-06-08
    10 一種10G抗反射激光器及其制備工藝 發(fā)明專(zhuān)利 CN202010415177.3 CN111541149A 2021-06-08

    軟件著作權(quán)0

    暫無(wú)信息 暫無(wú)軟件著作權(quán)

    作品著作權(quán)3

    序號(hào) 作品名 作品類(lèi)別 登記號(hào) 創(chuàng)作完成日期 首次發(fā)表日期 登記批準(zhǔn)日期
    1 origin of excellence - 國(guó)作登字-2021-F-00110853 - - -
    2 源杰半導(dǎo)體 - 國(guó)作登字-2021-F-00105968 - - -
    3 YJ - 國(guó)作登字-2021-F-00105967 - - -

    網(wǎng)站備案2

    序號(hào) 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號(hào) 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 陜西源杰半導(dǎo)體科技股份有限公司 www.yj-semitech.com;www.oe-semiconductor.com 陜ICP備17011567號(hào) 企業(yè) 2021-02-01
    2 陜西源杰半導(dǎo)體科技股份有限公司 www.yj-semitech.com;www.oe-semiconductor.com 陜ICP備17011567號(hào) 企業(yè) 2021-02-01
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