天科合達(dá)
北京天科合達(dá)新材料有限公司
存續(xù)商標(biāo)信息0
專利信息16
序號(hào) | 專利名稱 | 專利類型 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 公開(kāi)(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 一種高質(zhì)量SiC單晶片及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201911380293.X | CN113046825A | 2021-06-29 |
2 | 一種電阻率均勻的半絕緣型碳化硅晶片及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201911356607.2 | CN113026093A | 2021-06-25 |
3 | 一種高質(zhì)量低缺陷碳化硅單晶、其制備方法及應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202011535254.5 | CN112779603A | 2021-05-11 |
4 | 一種導(dǎo)電型碳化硅單晶及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN202011536526.3 | CN112725893A | 2021-04-30 |
5 | 一種有效降低碳化硅單晶缺陷的生長(zhǎng)方法和高質(zhì)量碳化硅單晶 | 發(fā)明專利 | CN201911380301.0 | CN110983434B | 2021-04-16 |
6 | 一種位錯(cuò)檢測(cè)系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN202011411979.3 | CN112557402A | 2021-03-26 |
7 | 一種大尺寸晶片加工用拋光液循環(huán)裝置和方法 | 發(fā)明專利 | CN201911377667.2 | CN111015500A | 2020-04-17 |
8 | 一種有效降低碳化硅單晶缺陷的生長(zhǎng)方法和高質(zhì)量碳化硅單晶 | 發(fā)明專利 | CN201911380301.0 | CN110983434A | 2020-04-10 |
9 | 一種低基面位錯(cuò)密度的碳化硅晶體生長(zhǎng)方法 | 發(fā)明專利 | CN201811533723.2 | CN110592672B | 2019-12-20 |
10 | 一種低基面位錯(cuò)密度的碳化硅晶體生長(zhǎng)方法 | 發(fā)明專利 | CN201811533723.2 | CN110592672A | 2019-12-20 |
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