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    • 眾芯聯(lián)

    蘇州眾芯聯(lián)電子材料有限公司

    存續(xù)
    • 官網(wǎng)：-
    • 地址：蘇州市吳中區(qū)甪直鎮(zhèn)迎賓西路988號6幢101-102-201-202室
    • 簡介：-
    • 商標信息 2
    • 專利信息 10
    • 軟件著作權 3
    • 作品著作權 0
    • 網(wǎng)站備案 0

    商標信息2

    序號 商標名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 圖形 40類-材料加工 55908091 商標已注冊 2021-05-10 查看
    2 眾芯聯(lián)電子材料;SDEM 40類-材料加工 50439079 商標已注冊 2020-10-15 查看

    專利信息10

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 一種大型平面部件的噴砂系統(tǒng) 實用新型 CN202122385189.9 CN215968257U 2022-03-08
    2 一種新型兩用臺車 實用新型 CN202122085810.X CN215940375U 2022-03-04
    3 一種泛半導體制造設備用雙極靜電卡盤及其制作方法 發(fā)明專利 CN202111398828.3 CN114121766A 2022-03-01
    4 一種干刻下部電極加工用治具板 實用新型 CN202122087494.X CN215600338U 2022-01-21
    5 一種用于靜電吸盤側面噴涂的旋轉夾具 實用新型 CN202122087493.5 CN215507430U 2022-01-14
    6 一種具有致密浮點表面結構的下部電極及其制作方法 發(fā)明專利 CN202111220383.X CN113917720A 2022-01-11
    7 一種用于LCD和AMOLED設備的大型鋁基板的加工工藝 發(fā)明專利 CN202111051551.7 CN113751969A 2021-12-07
    8 一種用于LCD和AMOLED干刻下部電極的再生工藝 發(fā)明專利 CN202110970139.9 CN113667919A 2021-11-19
    9 一種陶瓷材料及其耐等離子涂層的制備方法 發(fā)明專利 CN202110876412.1 CN113501727A 2021-10-15
    10 一種基材等離子噴涂工藝 發(fā)明專利 CN202011416854.X CN112553559A 2021-03-26

    軟件著作權3

    序號 軟件名稱 軟件簡稱 版本號 登記號 分類號 首次發(fā)表日期 登記批準日期
    1 眾芯聯(lián)干刻設備下部電極等離子熔射程系統(tǒng) - V1.0 2021SR2079878 - - 2021-12-20
    2 眾芯聯(lián)半導體干刻部件等離子熔射系統(tǒng) - V1.0 2021SR2079858 - - 2021-12-20
    3 眾芯聯(lián)CVD設備基臺等離子熔射系統(tǒng) - V1.0 2021SR1885997 - - 2021-11-25

    作品著作權0

    暫無信息 暫無作品著作權

    網(wǎng)站備案0

    暫無信息 暫無網(wǎng)站備案
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