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商標信息0
專利信息11
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 一種雙面曝光的對準裝置、方法及設備 | 發(fā)明專利 | CN201811557789.5 | CN109613803B | 2021-05-28 |
2 | 一種兩面對準的倒置曝光設備 | 發(fā)明專利 | CN201710032580.6 | CN106814552B | 2019-05-10 |
3 | 一種雙面曝光的對準裝置、方法及設備 | 發(fā)明專利 | CN201811557789.5 | CN109613803A | 2019-04-12 |
4 | 一種阻焊曝光方法 | 發(fā)明專利 | CN201710181528.7 | CN106707700B | 2018-04-06 |
5 | 一種雙面對位曝光裝置及含有該裝置的激光直寫設備 | 實用新型 | CN201720053360.7 | CN206479769U | 2017-09-08 |
6 | 一種倒置曝光設備 | 實用新型 | CN201720053359.4 | CN206411418U | 2017-08-15 |
7 | 一種帶有透明真空吸盤的倒置曝光設備 | 實用新型 | CN201720050159.3 | CN206411417U | 2017-08-15 |
8 | 一種兩面對準的倒置曝光設備 | 發(fā)明專利 | CN201710032580.6 | CN106814552A | 2017-06-09 |
9 | 一種阻焊曝光方法 | 發(fā)明專利 | CN201710181528.7 | CN106707700A | 2017-05-24 |
10 | 一種雙面對準的曝光系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN201710032482.2 | CN106647188B | 2017-05-10 |
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