華越
商標(biāo)信息1
序號(hào) | 商標(biāo)名稱 | 國(guó)際分類 | 注冊(cè)號(hào) | 狀態(tài) | 申請(qǐng)日期 | 操作 |
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1 | CHMC | 09類-科學(xué)儀器 | 527637 | 商標(biāo)已注冊(cè) | 1989-09-07 | 查看 |
專利信息28
序號(hào) | 專利名稱 | 專利類型 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 公開(kāi)(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 一種P溝道VDMOS器件生產(chǎn)方法 | 發(fā)明專利 | CN201610693325.1 | CN106098782B | 2019-10-18 |
2 | 一種肖特基二極管劃片區(qū)氧化層 | 實(shí)用新型 | CN201820475621.9 | CN208225883U | 2018-12-11 |
3 | 一種工藝廢水回收系統(tǒng) | 實(shí)用新型 | CN201820476740.6 | CN208218437U | 2018-12-11 |
4 | 一種肖特基接觸二極管中的鈦金屬層 | 實(shí)用新型 | CN201820476741.0 | CN208157418U | 2018-11-27 |
5 | 一種常壓CVD設(shè)備的冷卻水循環(huán)系統(tǒng) | 實(shí)用新型 | CN201820474137.4 | CN208154907U | 2018-11-27 |
6 | 適用于電容用氮化硅和做屏蔽層保護(hù)用氮化硅的氣路系統(tǒng) | 實(shí)用新型 | CN201820475654.3 | CN208154103U | 2018-11-27 |
7 | 一種光敏三極管加工工藝 | 發(fā)明專利 | CN201810298755.2 | CN108767054A | 2018-11-06 |
8 | 一種用半導(dǎo)體集成電路或者分立器件的濺射前處理方法 | 發(fā)明專利 | CN201810300435.6 | CN108766932A | 2018-11-06 |
9 | 一種雙層布線平坦化加工工藝 | 發(fā)明專利 | CN201810300484.X | CN108470715B | 2018-08-31 |
10 | 一種雙層布線平坦化加工工藝 | 發(fā)明專利 | CN201810300484.X | CN108470715A | 2018-08-31 |
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