華力
商標(biāo)信息0
專利信息1116
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 柵極電介質(zhì)層制備方法 | 發(fā)明專利 | CN202110438906.1 | CN113299548A | 2021-08-24 |
2 | 數(shù)據(jù)可視化制造生產(chǎn)監(jiān)控報(bào)表系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN202110599253.5 | CN113283223A | 2021-08-20 |
3 | 一種用于微松倒片機(jī)的超溫報(bào)警裝置 | 發(fā)明專利 | CN202110508773.0 | CN113252193A | 2021-08-13 |
4 | 化學(xué)機(jī)械研磨的控制方法、設(shè)備和存儲介質(zhì) | 發(fā)明專利 | CN202110526806.4 | CN113246012A | 2021-08-13 |
5 | 機(jī)械手臂 | 實(shí)用新型 | CN202022913314.4 | CN213936147U | 2021-08-10 |
6 | 加液裝置 | 實(shí)用新型 | CN202022799211.X | CN213933770U | 2021-08-10 |
7 | 超聲波清洗漕結(jié)構(gòu) | 實(shí)用新型 | CN202021823849.6 | CN213915194U | 2021-08-10 |
8 | 避免晶圓邊緣非完整曝光單元表面薄膜剝離的方法 | 發(fā)明專利 | CN201910862489.6 | CN110634729B | 2021-08-10 |
9 | 光學(xué)鄰近效應(yīng)修正方法及其修正系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN201910788194.9 | CN110456617B | 2021-08-10 |
10 | 半導(dǎo)體器件的制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201910643646.4 | CN110289243B | 2021-08-10 |
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