光谷量子
武漢光谷量子技術(shù)有限公司
存續(xù)商標(biāo)信息2
專利信息33
序號(hào) | 專利名稱 | 專利類型 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 公開(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 窄光譜響應(yīng)的光電探測(cè)器及其制作方法和設(shè)計(jì)方法 | 發(fā)明專利 | CN202010645475.1 | CN111769168B | 2022-03-11 |
2 | 臺(tái)面型二極管及其制作方法、陣列芯片的制作方法 | 發(fā)明專利 | CN202010640934.7 | CN111755555B | 2022-01-07 |
3 | 一種分布式布拉格反射鏡及其制作方法和設(shè)計(jì)方法 | 發(fā)明專利 | CN202010640500.7 | CN111884046B | 2021-11-09 |
4 | 一種獲取雪崩二極管關(guān)鍵參數(shù)的方法 | 發(fā)明專利 | CN202110517997.8 | CN113358992A | 2021-09-07 |
5 | 一種使用RIE設(shè)備刻蝕InP材料的方法及刻蝕InP材料 | 發(fā)明專利 | CN201710631297.5 | CN107359113B | 2021-04-13 |
6 | 一種深臺(tái)面型光電子器件及其電極光刻制備方法 | 發(fā)明專利 | CN202011302059.8 | CN112466994A | 2021-03-09 |
7 | 一種平面型APD的外延結(jié)構(gòu)、APD及其制作方法 | 發(fā)明專利 | CN202011458010.1 | CN112420860A | 2021-02-26 |
8 | 一種雪崩光電二極管 | 實(shí)用新型 | 2020212996866 | CN212392253U | 2021-01-22 |
9 | 一種半導(dǎo)體摻雜工藝的表征方法、裝置及系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | 2020111182742 | CN112014333B | 2020-12-01 |
10 | 一種半導(dǎo)體摻雜工藝的表征方法、裝置及系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN202011118274.2 | CN112014333A | 2020-12-01 |
軟件著作權(quán)0
作品著作權(quán)1
序號(hào) | 作品名 | 作品類別 | 登記號(hào) | 創(chuàng)作完成日期 | 首次發(fā)表日期 | 登記批準(zhǔn)日期 |
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1 | 光谷量子圖形 | - | 鄂作登字-2017-F-00001655 | - | 2016 | 2017 |
網(wǎng)站備案4
序號(hào) | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號(hào) | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | 光谷量子 | www.quantum-teck.com | 鄂ICP備16007795號(hào) | 企業(yè) | 2020-04-16 |
2 | 光谷量子 | www.quantum-teck.com | 鄂ICP備16007795號(hào) | 企業(yè) | 2020-04-16 |
3 | 光谷量子 | www.quantum-teck.com | 鄂ICP備16007795號(hào) | 企業(yè) | 2020-04-16 |
4 | 光谷量子 | www.quantum-teck.com | 鄂ICP備16007795號(hào) | 企業(yè) | 2020-04-16 |
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