中環(huán)領(lǐng)先
中環(huán)領(lǐng)先半導(dǎo)體材料有限公司
存續(xù)商標(biāo)信息0
專利信息533
序號(hào) | 專利名稱 | 專利類型 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 公開(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 一種降低Grinding過程Dimple率的自凈化方法 | 發(fā)明專利 | CN202210227627.5 | CN114758950A | 2022-07-15 |
2 | 一種便捷式大直徑硅片片盒清洗設(shè)備 | 發(fā)明專利 | CN202210338411.6 | CN114749406A | 2022-07-15 |
3 | 一種晶圓片用固定裝置 | 實(shí)用新型 | CN202122970170.0 | CN216957990U | 2022-07-12 |
4 | 一種保護(hù)CCD鏡頭的裝置 | 實(shí)用新型 | CN202122958130.4 | CN216957964U | 2022-07-12 |
5 | 一種測(cè)試單晶硅電阻率的輔助裝置 | 實(shí)用新型 | CN202122000064.X | CN216956144U | 2022-07-12 |
6 | 一種少子壽命測(cè)試儀防護(hù)支撐架 | 實(shí)用新型 | CN202122970149.0 | CN216951464U | 2022-07-12 |
7 | 一種可控制硅單晶的體微缺陷密度的單晶爐 | 實(shí)用新型 | CN202123017512.3 | CN216947284U | 2022-07-12 |
8 | 獲取硅單晶最佳拉速以制備高BMD密度12英寸外延片的方法 | 發(fā)明專利 | CN202210364769.6 | CN114737251A | 2022-07-12 |
9 | 一種改善硅片表面自然氧化層厚度的工藝 | 發(fā)明專利 | CN202210205046.1 | CN114649207A | 2022-06-21 |
10 | 一種大直徑硅片片盒清洗工藝 | 發(fā)明專利 | CN202210189934.9 | CN114643218A | 2022-06-21 |
軟件著作權(quán)2
序號(hào) | 軟件名稱 | 軟件簡(jiǎn)稱 | 版本號(hào) | 登記號(hào) | 分類號(hào) | 首次發(fā)表日期 | 登記批準(zhǔn)日期 |
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1 | 中環(huán)領(lǐng)先客戶服務(wù)平臺(tái) | - | V1.0.0 | 2022SR0423072 | - | 2021-12-25 | 2022-04-01 |
2 | 中環(huán)領(lǐng)先廠務(wù)SPC系統(tǒng) | 廠務(wù)SPC系統(tǒng) | V1.0.0 | 2022SR0423071 | - | 2021-06-28 | 2022-04-01 |
作品著作權(quán)0
網(wǎng)站備案4
序號(hào) | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號(hào) | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | - | www.zhlxsemicon.com | 蘇ICP備18059053號(hào) | 企業(yè) | 2021-10-18 |
2 | - | www.advsemicon.com | 蘇ICP備18059053號(hào) | 企業(yè) | 2021-10-18 |
3 | 中環(huán)領(lǐng)先半導(dǎo)體材料有限公司 | www.zhlxsemicon.com | 蘇ICP備18059053號(hào) | 企業(yè) | 2019-11-27 |
4 | 中環(huán)領(lǐng)先半導(dǎo)體材料有限公司 | www.advsemicon.com | 蘇ICP備18059053號(hào) | 企業(yè) | 2019-11-27 |
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