屹唐
北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司
存續(xù)商標(biāo)信息4
專利信息157
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 末端執(zhí)行器和用于處理工件的系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN202210475606.5 | CN114743854A | 2022-07-12 |
2 | 等離子體氮化摻雜方法和裝置及半導(dǎo)體器件 | 發(fā)明專利 | CN202210535375.2 | CN114724945A | 2022-07-08 |
3 | 帶有外部氣體通道插入件的工件處理裝置 | 發(fā)明專利 | CN202111587556.1 | CN114695056A | 2022-07-01 |
4 | 等離子體處理裝置的柵組件 | 發(fā)明專利 | CN202111587544.9 | CN114695055A | 2022-07-01 |
5 | 可配置的法拉第屏蔽體及其操作方法、等離子體處理裝置 | 發(fā)明專利 | CN202111574139.3 | CN114695054A | 2022-07-01 |
6 | 用于ICP源的冷卻屏蔽體 | 發(fā)明專利 | CN202111571118.6 | CN114695053A | 2022-07-01 |
7 | 使用臭氧氣體和氫自由基的工件加工 | 發(fā)明專利 | CN202210367378.X | CN114664656A | 2022-06-24 |
8 | 間隔物刻蝕工藝 | 發(fā)明專利 | CN202080005249.5 | CN112771650B | 2022-06-24 |
9 | 用于處理工件的方法 | 發(fā)明專利 | CN202210275845.6 | CN114649176A | 2022-06-21 |
10 | 具有均勻性控制的等離子體剝離工具 | 發(fā)明專利 | CN201880038239.4 | CN110731000B | 2022-06-03 |
軟件著作權(quán)0
作品著作權(quán)0
網(wǎng)站備案5
序號 | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號 | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | 北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司 | www.best-semiconductor.com | 京ICP備18054629號 | 企業(yè) | 2021-09-13 |
2 | 北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司 | www.best-semiconductor.com | 京ICP備18054629號 | 企業(yè) | 2021-09-13 |
3 | - | www.best-semiconductor.com | 京ICP備18054629號 | 企業(yè) | 2021-09-13 |
4 | 北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司 | www.best-semiconductor.com | 京ICP備18054629號 | 企業(yè) | 2021-02-19 |
5 | 北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司 | www.best-semiconductor.com | 京ICP備18054629號 | 企業(yè) | 2021-02-19 |
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