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  • 矩陣多元

    深圳市矩陣多元科技有限公司

    存續(xù)
    • 地址:深圳市龍華區(qū)民治街道上芬社區(qū)龍屋工業(yè)區(qū)6號(hào)廠房101一、二樓
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    • 商標(biāo)信息 2
    • 專(zhuān)利信息 25
    • 軟件著作權(quán) 4
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 2

    商標(biāo)信息2

    序號(hào) 商標(biāo)名稱(chēng) 國(guó)際分類(lèi) 注冊(cè)號(hào) 狀態(tài) 申請(qǐng)日期 操作
    1 圖形 09類(lèi)-科學(xué)儀器 37865732A 商標(biāo)已注冊(cè) 2019-04-28 查看
    2 圖形 09類(lèi)-科學(xué)儀器 37865732 駁回復(fù)審中 2019-04-28 查看

    專(zhuān)利信息25

    序號(hào) 專(zhuān)利名稱(chēng) 專(zhuān)利類(lèi)型 申請(qǐng)?zhí)?/th> 公開(kāi)(公告)號(hào) 公布日期
    1 一種高通量掩膜版及高通量薄膜制造設(shè)備 實(shí)用新型 CN202022729297.9 CN214991797U 2021-12-03
    2 一種高通量掩膜版及切換機(jī)構(gòu) 實(shí)用新型 CN202022309143.4 CN214991796U 2021-12-03
    3 一種高通量掩膜版、高通量薄膜制造設(shè)備及制造方法 發(fā)明專(zhuān)利 CN202011322226.5 CN112795869A 2021-05-14
    4 一種脈沖激光沉積和磁控濺射復(fù)合系統(tǒng) 實(shí)用新型 CN201922082352.7 CN211445880U 2020-09-08
    5 脈沖激光沉積加熱器 實(shí)用新型 CN201921819387.8 CN211152225U 2020-07-31
    6 一種激光入射窗口保護(hù)裝置 實(shí)用新型 CN201921961180.4 CN211142144U 2020-07-31
    7 脈沖激光沉積三維加熱臺(tái) 實(shí)用新型 CN201921802768.5 CN211142143U 2020-07-31
    8 一種薄膜沉積工藝控制系統(tǒng) 實(shí)用新型 CN201822206910.1 CN209854239U 2019-12-27
    9 石英掩膜結(jié)構(gòu)體 實(shí)用新型 CN201821909824.0 CN209412300U 2019-09-20
    10 一種配比可控的大面積高通量復(fù)合薄膜合成裝置 實(shí)用新型 CN201822157390.X CN209194035U 2019-08-02

    軟件著作權(quán)4

    序號(hào) 軟件名稱(chēng) 軟件簡(jiǎn)稱(chēng) 版本號(hào) 登記號(hào) 分類(lèi)號(hào) 首次發(fā)表日期 登記批準(zhǔn)日期
    1 脈沖激光沉積系統(tǒng) - V1.0 2020SR0013324 10100-0000 2019-05-23 2020-01-03
    2 脈沖激光沉積設(shè)備的鍍膜控制系統(tǒng) - V1.0 2020SR0013278 10100-0000 2019-06-20 2020-01-03
    3 磁控濺射系統(tǒng) - V1.0 2020SR0012824 10100-0000 2019-09-05 2020-01-03
    4 PLD設(shè)備PLC多從站輪循讀寫(xiě)控制系統(tǒng) - V1.0 2019SR0622051 10100-0000 2019-03-01 2019-06-17

    作品著作權(quán)0

    暫無(wú)信息 暫無(wú)作品著作權(quán)

    網(wǎng)站備案2

    序號(hào) 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號(hào) 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 深圳市矩陣多元科技有限公司 www.arrayedmaterials.com 粵ICP備17070621號(hào) 企業(yè) 2017-06-13
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