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  • 晶正電子

    濟南晶正電子科技有限公司

    在業(yè)
    • 地址:山東省濟南市高新區(qū)港興三路北段1號濟南藥谷研發(fā)平臺區(qū)1號樓B座1806室
    • 簡介:-
    • 商標(biāo)信息 12
    • 專利信息 113
    • 軟件著作權(quán) 0
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 2

    商標(biāo)信息12

    序號 商標(biāo)名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 NANOLN 42類-網(wǎng)站服務(wù) 12657925 商標(biāo)已注冊 2013-05-27 查看
    2 晶正 42類-網(wǎng)站服務(wù) 12657783 商標(biāo)已注冊 2013-05-27 查看
    3 NANO'LN 09類-科學(xué)儀器 12650370 商標(biāo)已注冊 2013-05-27 查看
    4 NANO'LN 01類-化學(xué)原料 12650369 商標(biāo)已注冊 2013-05-27 查看
    5 晶正 09類-科學(xué)儀器 12650368 商標(biāo)已注冊 2013-05-27 查看
    6 晶正 01類-化學(xué)原料 12650367 商標(biāo)已注冊 2013-05-27 查看
    7 NANOLN 01類-化學(xué)原料 11116398 商標(biāo)已注冊 2012-06-25 查看
    8 NANOLN 09類-科學(xué)儀器 11116397 商標(biāo)已注冊 2012-06-25 查看
    9 LINBOTEC 01類-化學(xué)原料 11116396 商標(biāo)已注冊 2012-06-25 查看
    10 LINBOTEC 09類-科學(xué)儀器 11116395 商標(biāo)已注冊 2012-06-25 查看

    專利信息113

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開(公告)號 公布日期
    1 一種單晶單疇壓電薄膜及其制備方法 發(fā)明專利 CN201910891629.2 CN110581212B 2021-09-24
    2 一種單晶單疇壓電薄膜及其制備方法 發(fā)明專利 CN201910891629.2 CN110581212A 2021-09-24
    3 一種薄膜體聲波器件及其制備方法 發(fā)明專利 CN202010188672.5 CN113411064A 2021-09-17
    4 超薄超平晶片和制備該超薄超平晶片的方法 發(fā)明專利 CN201711458484.4 CN109972204B 2021-09-17
    5 一種集成光學(xué)復(fù)合基板 發(fā)明專利 CN202010158416.1 CN113381297A 2021-09-10
    6 一種薄膜機械分離裝置 發(fā)明專利 CN202010108081.2 CN113299576A 2021-08-24
    7 復(fù)合薄膜及其制造方法 發(fā)明專利 CN202010071732.5 CN113224187A 2021-08-06
    8 壓電薄膜復(fù)合基板及其制備方法 發(fā)明專利 CN202010071169.1 CN113223943A 2021-08-06
    9 光波導(dǎo)集成器件 發(fā)明專利 CN202010071916.1 CN113219681A 2021-08-06
    10 一種復(fù)合薄膜的制備方法及復(fù)合薄膜 發(fā)明專利 CN202110479316.3 CN113193109A 2021-07-30

    軟件著作權(quán)0

    暫無信息 暫無軟件著作權(quán)

    作品著作權(quán)0

    暫無信息 暫無作品著作權(quán)

    網(wǎng)站備案2

    序號 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 濟南晶正電子科技有限公司官網(wǎng) www.nanoln.com 魯ICP備19017805號 企業(yè) 2019-04-18
    2 濟南晶正電子科技有限公司官網(wǎng) www.nanoln.com 魯ICP備19017805號 企業(yè) 2019-04-18
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