泰研
深圳泰研半導(dǎo)體裝備有限公司
存續(xù)商標(biāo)信息2
專(zhuān)利信息13
序號(hào) | 專(zhuān)利名稱(chēng) | 專(zhuān)利類(lèi)型 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 公開(kāi)(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 一種底部填充膠組合物 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN201910611768.5 | CN110358483B | 2021-11-26 |
2 | 一種SiP芯片低溫EMI真空磁控濺射鍍膜設(shè)備 | 實(shí)用新型 | CN202120627725.9 | CN214496463U | 2021-10-26 |
3 | 一種高精度半導(dǎo)體邊框切割裝置及其方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202110726899.5 | CN113305453A | 2021-08-27 |
4 | 一種芯片封裝工藝真空濺鍍的遮蔽板結(jié)構(gòu) | 實(shí)用新型 | CN202022861646.2 | CN213624352U | 2021-07-06 |
5 | 一種SiP芯片低溫EMI真空磁控濺射鍍膜設(shè)備及方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202110326801.7 | CN112877666A | 2021-06-01 |
6 | 一種在系統(tǒng)級(jí)封裝實(shí)現(xiàn)選擇性電磁屏蔽的工藝 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN202010542197.7 | CN111755424A | 2020-10-09 |
7 | 一種自動(dòng)晶圓清洗涂膠裝置 | 實(shí)用新型 | CN201921295443.2 | CN210585533U | 2020-05-22 |
8 | 一種晶圓激光開(kāi)槽裝置 | 實(shí)用新型 | CN201921254512.5 | CN210548930U | 2020-05-19 |
9 | 一種基于鐳射切割快速檢測(cè)方法的QFN封裝結(jié)構(gòu) | 實(shí)用新型 | CN201921546330.5 | CN210349826U | 2020-04-17 |
10 | 一種等離子切割晶圓用的保護(hù)溶液及其在加工晶圓中的應(yīng)用方法 | 發(fā)明專(zhuān)利 | CN201910612155.3 | CN110408283A | 2019-11-05 |
軟件著作權(quán)5
序號(hào) | 軟件名稱(chēng) | 軟件簡(jiǎn)稱(chēng) | 版本號(hào) | 登記號(hào) | 分類(lèi)號(hào) | 首次發(fā)表日期 | 登記批準(zhǔn)日期 |
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1 | 泰研激光標(biāo)記圖形編輯系統(tǒng) | 圖形編輯系統(tǒng) | V1.0.0 | 2021SR0363963 | - | 2020-11-18 | 2021-03-09 |
2 | 泰研半導(dǎo)體設(shè)備SECSGEM系統(tǒng) | SECSGEM系統(tǒng) | V1.0.0 | 2021SR0325899 | - | 2020-11-18 | 2021-03-02 |
3 | 泰研激光精密切割系統(tǒng) | 激光切割系統(tǒng) | V1.0.0 | 2021SR0325890 | - | 2020-11-18 | 2021-03-02 |
4 | 泰研激光標(biāo)記字體編輯系統(tǒng) | 字體編輯系統(tǒng) | V1.0.0 | 2021SR0325888 | - | 2020-11-18 | 2021-03-02 |
5 | 泰研芯片塑封體激光自動(dòng)標(biāo)記系統(tǒng) | 芯片標(biāo)記系統(tǒng) | V1.0.0 | 2021SR0325736 | - | 2020-11-18 | 2021-03-02 |
作品著作權(quán)0
網(wǎng)站備案3
序號(hào) | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號(hào) | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | 深圳泰研半導(dǎo)體裝備有限公司 | www.teyansemi.com | 粵ICP備19114236號(hào) | 企業(yè) | 2019-09-12 |
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