加睿晶欣
山東加睿晶欣新材料股份有限公司
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專利信息10
序號(hào) | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 高溫?zé)崽幚磔o助二維涂覆掩模襯底生長氮化鎵單晶的方法 | 發(fā)明專利 | CN202111128254.8 | CN113832546A | 2021-12-24 |
2 | 一種多步連續(xù)調(diào)控直接生長自剝離氮化鎵的方法 | 發(fā)明專利 | CN202110701740.8 | CN113430649A | 2021-09-24 |
3 | 阻礙半極性面氮化鎵生長并制備自剝離氮化鎵晶體的方法 | 發(fā)明專利 | CN202110701742.7 | CN113430641A | 2021-09-24 |
4 | 一種水熱腐蝕多孔襯底生長自支撐氮化鎵單晶的方法 | 發(fā)明專利 | CN201710601044.3 | CN107326444B | 2019-10-18 |
5 | 一種利用激光處理襯底生長低應(yīng)力自支撐GaN單晶的方法 | 發(fā)明專利 | CN201810122199.3 | CN108315823A | 2018-07-24 |
6 | 一種水熱腐蝕多孔襯底生長自支撐氮化鎵單晶的方法 | 發(fā)明專利 | CN201710601044.3 | CN107326444A | 2017-11-07 |
7 | 在SiC襯底上直接生長自剝離GaN單晶的方法 | 發(fā)明專利 | CN201410113538.3 | CN103882526B | 2016-06-01 |
8 | 一種使用圖形化退火多孔結(jié)構(gòu)進(jìn)行GaN單晶生長的方法 | 發(fā)明專利 | CN201410114052.1 | CN103866380B | 2016-05-11 |
9 | 利用六方氮化硼納米片生長高質(zhì)量氮化鎵晶體的方法 | 發(fā)明專利 | CN201410024671.1 | CN103741221B | 2016-04-20 |
10 | 一種利用高溫退火表征GaN外延層中位錯(cuò)的方法 | 發(fā)明專利 | CN201410000379.6 | CN103728469B | 2015-09-30 |
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