凝慧
商標(biāo)信息0
專利信息62
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 基于雙線性漸變Al組分AlGaN電子發(fā)射層GaN耿氏二極管及制作方法 | 發(fā)明專利 | CN201410272508.7 | CN104009157B | 2016-10-12 |
2 | HEMT器件柵泄漏電流中臺面泄漏電流的測試方法 | 發(fā)明專利 | CN201410319025.8 | CN104062485B | 2016-08-17 |
3 | 基于復(fù)合漏極的槽柵高壓器件及其制作方法 | 發(fā)明專利 | CN201410033307.1 | CN103839996B | 2016-08-17 |
4 | 加源場板耗盡型絕緣柵AlGaN/GaN器件結(jié)構(gòu)及其制作方法 | 發(fā)明專利 | CN201410025516.1 | CN103779406B | 2016-05-04 |
5 | 一種基于槽柵高壓器件及其制作方法 | 發(fā)明專利 | CN201410033269.X | CN103794643B | 2016-03-02 |
6 | 選區(qū)外延的一維電子氣GaN基HEMT器件及制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201310280177.7 | CN103400856B | 2016-03-02 |
7 | 橫向過生長一維電子氣GaN基HEMT器件及制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201310277894.4 | CN103383959B | 2015-10-28 |
8 | 二次生長的一維電子氣GaN基HEMT器件及制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201310280220.X | CN103367429B | 2015-10-28 |
9 | 基于刻蝕的一維電子氣GaN基HEMT器件及制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201310280216.3 | CN103367428B | 2015-10-28 |
10 | 基于a面6H-SiC襯底上a面GaN緩沖層上InN半導(dǎo)體器件的制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201310237610.9 | CN103320764B | 2015-10-21 |
軟件著作權(quán)0
作品著作權(quán)0
網(wǎng)站備案1
序號 | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號 | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | - | www.ninghuikeji.com | 滇ICP備18003286號 | 企業(yè) | 2019-09-19 |
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