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    上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司

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    序號(hào) 專利名稱 專利類型 申請(qǐng)?zhí)?/th> 公開(kāi)(公告)號(hào) 公布日期
    1 一種掩膜版及套刻精度測(cè)量方法 發(fā)明專利 CN201210230386.6 CN102722082B 2019-01-18
    2 EEPROM存儲(chǔ)單元以及EEPROM存儲(chǔ)器 發(fā)明專利 CN201210143432.9 CN102682845B 2018-10-16
    3 存儲(chǔ)器的檢測(cè)方法 發(fā)明專利 CN201310317888.7 CN103366831B 2018-08-21
    4 IP核檢測(cè)版圖、版圖設(shè)計(jì)系統(tǒng)及版圖設(shè)計(jì)方法 發(fā)明專利 CN201210396347.3 CN102880763B 2018-07-31
    5 一種半導(dǎo)體檢測(cè)系統(tǒng)和回刻深度的測(cè)量方法 發(fā)明專利 CN201210366154.3 CN102856228B 2018-03-30
    6 識(shí)別化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的研磨性能的方法 發(fā)明專利 CN201210030428.1 CN102554768B 2018-02-09
    7 電阻模型的建模方法 發(fā)明專利 CN201310321036.5 CN103390086B 2018-01-26
    8 電可擦可編程只讀存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)以及電子設(shè)備 發(fā)明專利 CN201210093908.2 CN102623057B 2018-01-26
    9 內(nèi)置菲涅耳透鏡的圖像傳感器及其制造方法 發(fā)明專利 CN201210061931.3 CN102569327B 2018-01-26
    10 自對(duì)準(zhǔn)閃存中的浮柵結(jié)構(gòu)及其制造方法 發(fā)明專利 CN201110341960.0 CN102394243B 2018-01-26

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