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    • 晶源

    東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司

    存續(xù)
    • 地址：深圳市福田區(qū)福保街道福田保稅區(qū)英達(dá)利科技數(shù)碼園C座301F室
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    • 專利信息 12
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    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 2

    商標(biāo)信息0

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    專利信息12

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 一種用于光刻機(jī)照明系統(tǒng)的自由光瞳生成方法 發(fā)明專利 CN202011406432.4 CN112462577A 2021-03-09
    2 一種光刻膠模型的建立方法及電子設(shè)備 發(fā)明專利 CN202011255892.1 CN112364508A 2021-02-12
    3 一種負(fù)顯影光刻工藝的仿真方法、負(fù)顯影光刻膠模型、OPC模型及電子設(shè)備 發(fā)明專利 CN202011306691.X CN112363372A 2021-02-12
    4 一種雙重圖形掩模優(yōu)化結(jié)果的跨接缺陷檢測方法及電子設(shè)備 發(fā)明專利 CN202011241787.2 CN112348797A 2021-02-09
    5 一種衡量光瞳之間匹配程度的評價方法 發(fā)明專利 CN202011255868.8 CN112305874A 2021-02-02
    6 一種負(fù)顯影光刻工藝的全芯片快速仿真方法、負(fù)顯影光刻膠模型、OPC模型及電子設(shè)備 發(fā)明專利 202011153654X CN112257270A 2021-01-22
    7 一種計算光刻投影物鏡中朗奇剪切干涉圖像的方法 發(fā)明專利 CN202011148935.6 CN112114501A 2020-12-22
    8 一種光源、偏振及掩模聯(lián)合優(yōu)化方法及電子設(shè)備 發(fā)明專利 CN202010928268.7 CN111965935A 2020-11-20
    9 一種集成電路掩模設(shè)計的優(yōu)化方法及計算機(jī)可讀的存儲介質(zhì) 發(fā)明專利 CN201710065850.3 CN106777829B 2019-04-12
    10 全芯片掩模圖案生成的方法、裝置及計算機(jī)可讀介質(zhì) 發(fā)明專利 CN201810155893.5 CN108490735A 2018-09-04

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    網(wǎng)站備案2

    序號 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司 113.106.165.242 粵ICP備2021092158號 企業(yè) 2021-07-06
    2 東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司 113.106.165.242 粵ICP備2021092158號 企業(yè) 2021-07-06
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