萬國
商標信息3
專利信息245
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 一種SGT MOSFET器件及其接觸孔的制造方法 | 發(fā)明專利 | CN202110271647.8 | CN113035840A | 2021-06-25 |
2 | 一種柵極電阻可調(diào)型超結(jié)功率器件及其制造方法 | 發(fā)明專利 | CN202110271644.4 | CN113035701A | 2021-06-25 |
3 | 一種溝槽功率器件與源極電容集成及其制造方法 | 發(fā)明專利 | CN202011262093.7 | CN112382613A | 2021-02-19 |
4 | 一種溝槽功率器件及其制造方法 | 發(fā)明專利 | CN202011264302.1 | CN112382566A | 2021-02-19 |
5 | 一種多層外延減壓生長方法 | 發(fā)明專利 | CN202011264301.7 | CN112382560A | 2021-02-19 |
6 | 聯(lián)合封裝高端和低端芯片的半導體器件及其制造方法 | 發(fā)明專利 | CN201110310147.7 | CN103035631B | 2015-07-29 |
7 | 制備準諧振變換器的單片IGBT和二極管結(jié)構(gòu)及方法 | 發(fā)明專利 | CN201110436059.1 | CN102569297B | 2015-07-15 |
8 | 帶有MOSFET和低正向電壓的等效二極管增強型JFET的半導體器件及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201110306022.7 | CN102437187B | 2015-07-01 |
9 | 二維屏蔽柵晶體管器件及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201210418340.7 | CN103094321B | 2015-06-24 |
10 | 一種低導通電阻的功率MOS晶體管器件及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN201110305952.0 | CN103021858B | 2015-05-27 |
軟件著作權(quán)0
作品著作權(quán)2
序號 | 作品名 | 作品類別 | 登記號 | 創(chuàng)作完成日期 | 首次發(fā)表日期 | 登記批準日期 |
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1 | 重慶萬國半導體公司2020標識(圖) | - | 國作登字-2020-F-01038969 | - | 2020 | 2020 |
2 | 重慶萬國半導體公司中文標識 | - | 國作登字-2020-F-01038358 | - | 2018 | 2020 |
網(wǎng)站備案2
序號 | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號 | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | 重慶萬國半導體科技有限公司 | 222.178.193.203 | 渝ICP備18014808號 | 企業(yè) | 2020-06-09 |
2 | 重慶萬國半導體科技有限公司 | www.cqaos.com | 渝ICP備18014808號 | 企業(yè) | 2020-06-09 |
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