偉特森
商標(biāo)信息4
專利信息29
序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
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1 | 一種半導(dǎo)體器件終端結(jié)構(gòu)及制備方法 | 發(fā)明專利 | CN202111197173.3 | CN113948491A | 2022-01-18 |
2 | 一種碳化硅半導(dǎo)體器件的制作方法 | 發(fā)明專利 | CN202110908129.2 | CN113643970A | 2021-11-12 |
3 | 一種消除或減少局部熱應(yīng)力的芯片 | 實(shí)用新型 | CN202121124632.0 | CN214588864U | 2021-11-02 |
4 | 一種溝槽型碳化硅晶體管及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN202110672504.8 | CN113506826A | 2021-10-15 |
5 | 一種積累型溝道結(jié)構(gòu)的T-gate溝槽碳化硅晶體管及其制作方法 | 發(fā)明專利 | CN202110568683.0 | CN113299748A | 2021-08-24 |
6 | 一種用皮秒激光照射制備碳化硅結(jié)構(gòu)的方法 | 發(fā)明專利 | CN201910501481.7 | CN112071740A | 2020-12-11 |
7 | 一種碳化硅二極管元胞結(jié)構(gòu) | 實(shí)用新型 | CN201922270391.X | CN211719595U | 2020-10-20 |
8 | 一種結(jié)勢壘肖特基結(jié)構(gòu)的二極管 | 實(shí)用新型 | CN201922355717.9 | CN211629119U | 2020-10-02 |
9 | 一種溝槽型SiCIGBT結(jié)構(gòu)及其制備方法 | 發(fā)明專利 | CN202010306447.7 | CN111490098A | 2020-08-04 |
10 | 一種溝槽轉(zhuǎn)角處具有厚柵氧化層的SiC-MOSFET柵的制備方法 | 發(fā)明專利 | CN202010307604.6 | CN111489963A | 2020-08-04 |
軟件著作權(quán)0
作品著作權(quán)0
網(wǎng)站備案1
序號 | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號 | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | 重慶偉特森科技有限公司 | www.wattscience.com.cn | 渝ICP備18007527號 | 企業(yè) | 2018-06-04 |
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