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    • 有研

    有研半導(dǎo)體硅材料股份公司

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    • 地址：北京市順義區(qū)林河工業(yè)開發(fā)區(qū)雙河路南側(cè)
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    專利信息367

    序號(hào) 專利名稱 專利類型 申請(qǐng)?zhí)?/th> 公開（公告）號(hào) 公布日期
    1 一種用于評(píng)價(jià)硅基背封膜致密性的裝置和方法 發(fā)明專利 CN201711370681.0 CN109932337B 2021-08-03
    2 一種延長(zhǎng)拋光布使用壽命的處理方法 發(fā)明專利 CN201811529111.6 CN111318964B 2021-06-22
    3 一種用于檢測(cè)晶圓粗加工表面清潔程度的設(shè)備及方法 發(fā)明專利 CN201711290179.9 CN109904085B 2021-06-22
    4 一種用于金剛石刀具修正的裝置及方法 發(fā)明專利 CN201911299144.0 CN112975597A 2021-06-18
    5 一種改善硅拋光片表面粗糙度的拋光方法 發(fā)明專利 CN201911280083.3 CN112975578A 2021-06-18
    6 一種12英寸硅拋光片加工的工藝方法 發(fā)明專利 CN201911280084.8 CN112967922A 2021-06-15
    7 一種延長(zhǎng)石墨坩堝使用壽命的方法 發(fā)明專利 CN201911270089.2 CN112941618A 2021-06-11
    8 一種用于重?fù)戒R直拉單晶硅的摻雜裝置及摻雜方法 發(fā)明專利 CN201911264374.3 CN112941617A 2021-06-11
    9 一種區(qū)熔硅單晶的收尾方法 發(fā)明專利 CN201911262992.4 CN112941615A 2021-06-11
    10 一種硅電極加工的工藝方法 發(fā)明專利 CN201911254218.9 CN112928006A 2021-06-08

    軟件著作權(quán)0

    暫無信息 暫無軟件著作權(quán)

    作品著作權(quán)0

    暫無信息 暫無作品著作權(quán)

    網(wǎng)站備案6

    序號(hào) 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號(hào) 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 有研半導(dǎo)體國(guó)泰事業(yè)部 www.guotaisemi.com 京ICP備18028919號(hào) 企業(yè) 2021-08-09
    2 有研半導(dǎo)體硅材料股份公司 www.gritek.com 京ICP備18028919號(hào) 企業(yè) 2021-08-09
    3 有研半導(dǎo)體材料有限公司 www.gritek.com 京ICP備18028919號(hào) 企業(yè) 2019-08-15
    4 有研半導(dǎo)體國(guó)泰事業(yè)部 www.guotaisemi.com 京ICP備18028919號(hào) 企業(yè) 2019-08-15
    5 有研半導(dǎo)體材料有限公司 www.gritek.com 京ICP備18028919號(hào) 企業(yè) 2019-08-15
    6 有研半導(dǎo)體國(guó)泰事業(yè)部 www.guotaisemi.com 京ICP備18028919號(hào) 企業(yè) 2019-08-15
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